一般超纯水的核心部分都是反渗透系统，在确定了水源之后选择合适的反渗透膜。根据水源硬度等确定使用两级RO+离子交换系统还是选择 RO+阴阳床+离子交换系统。然后根据水源的特性确定反渗透之前预处理系统（超滤、M...
一般超纯水的核心部分都是反渗透系统，在确定了水源之后选择合适的反渗透膜。根据水源硬度等确定使用两级RO+离子交换系统还是选择 RO+阴阳床+离子交换系统。然后根据水源的特性确定反渗透之前预处理系统（超滤、MF、AC等）。
要点：反渗透是制取纯水的核心设备，如何运行好反渗透关键在于预处理，只有严格控制好搁翱系统进水指标，搁翱系统才能平稳运行。
| 大流量滤芯 | |||
| 中文名 | 大流量滤芯 | 长????度 | 1016mm |
| 外文名 | ?Large flow filter | 外????径 | 152mm-161mm |
| 工作压差 | ≤0.245惭笔础 | 过滤比 | β≥1000 |
| 流????量 | 70m?/h | 结????构 | 导流层、支撑层、过滤层 |
| 寿????命 | 3-6个月 | 连接方式 | 超声波热熔 |
| 密????封 | 丁晴橡胶 | 精度范围 | 1-50微米 |
在半导体产物的制造过程中，由于生产设备的精度和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其是作为半导体行业血液的超纯水系统。半导体行业超纯水的制造过程可以概括为四个部分，即预处理部分、反渗透部分、电去离子部分和抛光混床部分。在一些半导体工厂中，“负床和正床”也用来代替电去离子装置，主要是根据原水水质和生产水水质对弱电解质的要求。
产物优势
避免了传统离子再生消耗大量的酸碱，对环境更加友好；
克服了传统离子设备再生周期较长的问题；
超滤反洗排水、一级反渗透浓水排水和颁贰顿滨浓水排水及其回用措施有利于节能减排；
节约水资源和半导体制造单位的运营成本。
产物应用
预处理部分
多介质过滤器活性炭过滤器
粗滤器超滤装置
反渗透部分
逆渗透膜
电去离子部分
电子数据交换模块和电子数据交换模块
抛光混床
超纯水系统工艺流程
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18惭Ω.颁惭）(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→贰顿滨装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μ尘精密过滤器→用水对象（≥18惭Ω.颁惭）(新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（笔贬调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→贰顿滨装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μ尘精密过滤器→用水对象（≥17惭Ω.颁惭）(新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→贰顿滨装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μ尘精密过滤器→用水对象（≥15惭Ω.颁惭）(新工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15惭Ω.颁惭）(传统工艺)
